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S-50二氧化硅抛光液系列

一、产品介绍

由Cavo Special Lubricants加孚公司自主研制的S-50蓝宝石衬底材料拋光液是解决蓝宝石衬底材料拋光过程中存在的衬底片表面去除速率低、粗糙度高、易划伤、易蹋边等问题,而开发的一款化学机械拋光液具有化学作用强、去除速率快,表面粗糙度低、无划伤,且成本低的蓝宝石衬底材料拋光液。

本产品中各组分的作用分别为:纳米SiO2溶胶作为拋光液磨料,其粒径小(30~80nm)、浓度高(>30%)、硬度小(对基片损伤度小)、分散度好,能够达到高速率高平整低损伤拋光、污染小,解决了Al2O3磨料硬度大易划伤、易沉淀等诸多弊端;该碱性拋光液对PH有很好的缓冲作用,产物易溶于水,使反应产物在小的机械作用下即可脱离加工表面,同时还能很好地去除金属离子。

该产品能够快速的待加工材料进行反应,起到增强化学作用的目的,能降低表面张力,提高凹凸选择性,又能起到渗透和润滑作用,从而有效的提高了交换速率,增强了输运过程,达到高平整高光洁表面。

二、S-50系类蓝宝石材料拋光液技术指标及使用说明

 

 技术指标  项      目(Item)  规     格(Specifications) 
 磨     料 (Material)  SIO2 
 粒 径(Particle size)  30-50nm 
 粘 度(Viscosity)  >4CP 
 稀释比例(Dilution ratio)  1:1 或1:3 或1:5 
 PH值(Ph value)  >10.2 
 磨料含量Abrasive content  >30 
 去除速率 MRR  10-15um/h 
 加工后翘曲度 BOW  ≦20µm 
 加工后表面粗糙度(Surface    Roughness)  Ra<1nm <><1nm <><1nm <><1nm
 使用范围  ※ 精密光学器件、晶体、蓝宝石衬底、蓝宝石窗口镜面精密抛光 
※ 光纤连接器抛光 
※ 金属、合金、不锈钢抛光 
※ 多种复合晶体抛光 
※ 半导体材料抛光,用于半导体芯片氧化物层,衬底的抛光 
 产品特点  ※ 高纯度、离子含量低,减小对电子产品的玷污(Cu2+含量小于50 ppb) 
※ 粒度小、分布集中,高平坦度加工 
※ 抛光速率快、表面质量高 
※ 产品稳定性好、储存期长 
 储存条件  储存温度   0~35℃  储存湿度  20~70%  
 保存期限  1年 

 

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